LAUDAノアPOU

熱電のプロセス恒温コントローラは、半導体業界向けにカスタマイズされ、温度範囲は–20へ90 °C

実践的に検証されたパルプ熱伝導原理に基づいて、LAUDA-Noah POU熱電の温度制御システムはプラズマエッチング応用のために再現性のある温度制御を提供することができる。静電チャック（ESC）動的温度制御により、POUはすべてのタイプのエッチングプロセスに適用できるようになった。

効率的で省エネ、省スペース、同時に安定した温度制御ができ、この知能システムはwafer to waferの均一性を完璧に高めることができる。