分子ポンプLOW-E生産ラインの真空引き

PfeifferLOW-E（低放射性ガラス）製造ラインにおける分子ポンプの使用
LOW-EのフルネームLow emissivityは、低放射線被覆ガラスです。熱反射ガラスに対して新しい省エネガラスである。現在、国際的に真空マグネトロンスパッタリングめっき技術（オフライン法）を用いてLow−Eガラスを生産している。バートン社が販売するドイツの普発Pfeifferぶんしポンプこれへの適用に成功しました。

げんり：ガラスを棚に垂直に置き、10-1 Paオーダーの真空環境に送り、適量のプロセスガス（不活性ガスArまたは反応ガスO 2、N 2）を通し、真空度を安定させる。ターゲットAg、Siなどをカソードに埋め込み、カソードに垂直な水平方向に磁場を入れてマグネトロンターゲットを構成する。磁気制御ターゲットを陰極とし、直流または交流電源を加えると、高電圧の作用下でプロセスガスがイオン化し、プラズマを形成する。その中で、電子は電場と磁場の共同作用の下で、高速螺旋運動を行い、ガス分子に衝突し、より多くの正イオンと電子を発生する、正イオンは電場の作用の下で、一定のエネルギーに達した後に陰極ターゲットに衝突し、スパッタされたターゲットはガラス基板上に堆積して薄膜を形成する。均一に一致した膜層を形成するために、陰極ターゲットはガラス表面に近づいて往復移動する。多層膜を得るためには、複数の陰極を用いなければならず、各陰極はガラス表面を往復移動し、一定の膜厚を形成する。

ドイツの普発PFEIFERは120年以上の真空製造経験と世界規模のアフターサービスと技術サポートによってLOW-E市場の顧客の愛顧を勝ち取った、ドイツの馮.オーデナー（VON ARDENNE）は最も典型的な顧客です。PFEIFFERぶんしポンプのLOE-E生産ラインは信義ガラス、南ガラスなどの中国ガラス製造大手に使用されている。
Pfeifferぶんしポンプ利点：

• お客様が選択できるように多くの速度を引き出し、1000～2000 L/Sの速度を引き出す
• Hの場合₂,HeとAr，CF₄高い抽気速度がある
• 設置位置は0～90度、90～180度
• 高いガス流通量、Ar、CFであっても₄
• 統合されたTC 1200駆動ユニットは電源に直接接続可能
• 選択のための耐食性
• 豊富なインタフェース：RS-485およびリモート制御、profibusまたはDevicenetを選択可能
• IP 54とSemi S 2レベルを持つ
• 安定安全なロータ軸受システム
• UL、CSA、TUV認証に準拠
• 簡単なインストール