1200℃予備加熱摺動二温域PECVDシステム

アプリケーション：二（に）

PECVDシステムは、高周波を用いて薄膜組成原子を含むガスをイオン化し、局所的にプラズマを形成するが、プラズマは化学活性が強く、反応が起こりやすく、基板上に所望の薄膜を堆積する。

製品構成：

PECVDシステム構成：

1.1200度オープン二重温度帯真空管式炉

2.スライドシステムは手動、電動スライドに分けられ、管内測温システムを配置する。

3.予備加熱オープン管式電気炉

4.プラズマ無線周波電源

5.多重品質流量制御システム

6.真空システム（中真空または高真空を選択可能）

製品特徴：

成長温度が低い、堆積速度が速い、成膜品質が良く、適用範囲が広く、設備が簡単である。

天津中環電気炉株式会社住所：天津市北辰区北辰科学技術園区双川道11号