1200℃摺動二温域/多温域PECVDシステム

製品の用途：

製品の専門性：

PECVDシステムは、高周波を用いて薄膜組成原子を含むガスをイオン化し、局所的にプラズマを形成するが、プラズマは化学活性が強く、反応が起こりやすく、基板上に所望の薄膜を堆積する。

製品構成：

PECVDシステム構成：

1.1200度オープン二重温度帯真空管式炉

2.プラズマ無線周波電源

3.多重品質流量制御システム

4.真空システム（中真空または高真空を選択可能）

製品特徴：

成長温度が低い、堆積速度が速い、成膜品質が良く、適用範囲が広く、設備が簡単である。