1200℃真空炉（拡散ポンプユニット）

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概要

【製品名】1200℃真空炉（拡散ポンプユニット）【炉胴容積】30 L【定格温度】1200℃【温度制御精度】1℃【応用分野】1200℃真空雰囲気箱式抵抗炉は主に高等大学、科学研究院所、工場企業などの業界実験室に高温熱処理環境を提供し、金属材料、セラミックス材料、ナノ材料、半導体材料などの新材料分野に応用できる。

製品詳細

商品説明

【製品名】1200℃真空炉（拡散ポンプユニット）

【炉内容積】30 L

【定格温度】1200℃

【温度制御精度】±1℃

【応用分野】1200℃真空雰囲気箱型抵抗炉は主に高等大学、科学研究院所、工場企業などの業界実験室に高温熱処理環境を提供し、金属材料、セラミックス材料、ナノ材料、半導体材料などの新材料分野に応用できる。

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