タンク式真空炉

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モデル

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概要

缶式真空炉は高速鋼、高合金金型鋼、電工磁性材料、非鉄金属、ステンレス鋼などの製品の光輝焼鈍に用いられ、固溶時効にも用いることができる。及び焼入れ後の焼戻し熱処理。

製品詳細

タンク式真空炉別名無酸素焼鈍炉、真空雰囲気焼結炉などとも呼ばれ、定量ガスが通された炉内で物体が焼結する。異なる材料は適切な雰囲気焼結を選択し、焼結過程に役立ち、製品の緻密化の程度を高め、良好な性能を得る製品である。真空雰囲気炉には、真空、水素、酸素、窒素、アルゴンなどの不活性ガスなどの様々な雰囲気が一般的に使用されている。例えば、透明アルミナセラミックスは水素雰囲気で焼結することができ、透明強誘電セラミックスは酸素雰囲気で焼結することができ、窒化物セラミックス、例えば窒化アルミニウムなどは窒素雰囲気で焼結することができる。焼結調整を保護するためにも保護雰囲気中で操作する必要がある場合がある。

炉具は知能温度制御器を採用し、標準PID、人工知能調節APID或いはMPTなどの多種の調整方式を備え、自己整定、自己学習機能、オーバーシュート及びオーバーシュートのない優良な制御特を有し、30段プログラム制御機能を備え、任意の傾きの昇、降温制御を実現でき、ジャンプサイクルを有する)、運転、一時停止及び停止などのプログラム可能/操作可能な命令を備え、プログラムの制御運転中に随時プログラムを修正することができる、曲線フィッティング機能を備えた人工知能調節アルゴリズムを採用し、滑らかで滑らかな曲線制御効果を得ることができる、

本設備は広範に大学、科学研究院所、工鉱企業、*、電子、冶金、医薬、陶磁器、ガラス、機械、金属、建材、化学工業などの単位業界の新材料開発、熱処理などの実験と生産の理想的な設備に使用されている。

1	製品名	タンク式真空炉
2	製品型番	TN-Q1200Z	TN-Q1400Z	TN-Q1700Z
3	炉心寸法mm	100×100×100mm 1L
		150×150×150mm 3.4L
		150×150×200mm 4.5L
		200×200×200mm 8L
		200×200×300mm 12L
		300×300×300mm 27L
		400×400×400mm 64L
		500×500×500mm 125L
4	とくしゅすんぽう	ユーザーのニーズに合わせてカスタマイズ可能
5	ていかくおんど	1200	1400℃	1700℃
6	作動温度	1100℃	1300℃	1600℃
7	かねつおんどたい	たんおんりょういき
8	シール方式	真空シリカゲル密封フランジ機械ポンプ
9	気密性	10Pa
10	制御モード	インテリジェントPID
11	温度制御精度	±1℃
12	おんどきょくせん	30セグメント時間-温度曲線は任意に設定可能
13	プリセット曲線	保存可能な10個の温度曲線
14	オーバフロー保護	ある
15	パリティ解除のヒント	ある
16	ちょうおんけいほう	ある
17	かねつそくど	提案：20℃/分	提案：15℃/分	提案：10℃/分
18	ガス供給システム	2道路フロート流量計（混合ガスシステム付き）60-600 ml/min
19	動作電圧	AC 220 380 V 50 Hz
20	そくおんそし	K型熱電対	S型熱電対	B型熱電対
21	ヒータエレメント	抵抗線	シリコン炭素棒	けい素モリブデン棒
22	ひごうしざいりょう	アルミナ繊維
23	アフターサービス	12ヶ月保証、終身保証
24	ランダム部品	取扱説明書

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