ICP-5000誘導結合プラズマ発光分光器（ICP-OES）

ネゴシエーション可能更新05/07

モデル

メーカーの性質: 生産者

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原産地

オンラインコンサルティング

概要

ICP-5000は集光科学技術が長年のスペクトル分析機器の研究開発経験に基づいて、革命的に全スペクトル直読ICP-OES製品を発売した。ICP-5000の豊富なスペクトルライブラリは5万以上のスペクトル線を選択でき、多元素の同期測定能力は最大72元素を同時に分析することができる。耳目一新の外観工業設計の下で、ICP-5000は更に最適化設計の中階段格子二次元分光システム、性の自励式全固体RF電源、カスタマイズされた百万画素オーバーフロー防止CCDと全自動スペクトル収集システム、全面的に精確なアルゴンガス制御ロジック及び唯一の複雑な光室温度制御システムを含み、ICP-5000は高解像度、大動態範囲、高安定性、低検出限界などの優れた遺伝子特徴を持ち、その分析検出限界、精密度、安定性はレベルに達した。

製品詳細

製品概要

製品の特徴

工夫の細部,コダックの構築RSD≤0.5%の精度

のプロセス,実現RSD≤2%の8じかんあんていせい

使いやすいソフトハードウェア設計,すべてはあなたが思っていることを思っています

豊富なアクセサリ,柔軟な構成と低消費電力,あなたを安心させます

技術パラメータ：

1.高周波発生器

出力：0.75-1.5 kW以上、連続調整可能

電力安定性<0.1%;周波数安定性<0.1%

トーチ管：取り付けが便利、自動位置決めが正確

霧化器ガス流、プラズマガス、補助ガスは質量流量制御器によって制御され、制御精度≦0.01 L/min

2.検出限界：Al 167.0 nm、P 178.2 nm、B 182.6 nm、Se 196.0 nm、Pb 220.3 nm、Na、Kなどの検出限界はいずれも10µg/Lより優れている。

技術的パフォーマンス：

精密で安定した信頼性の高いシステム

スムーズなサンプリングシステム

せいみつプラズマ

信頼性の高い水冷システム

強固な光学系

科学研究レベルの流出防止高速度CCD及び数採取システム

操作が容易なメンテナンスと監視

わずかなメンテナンス

可視化された監視システム

取り外し可能なトーチ管

自動化されたトーチ管のアライメント、光源の最適化などの機器最適化機能

フレンドリーで使いやすく、パワフルな要素 V解析ソフトウェア

強力な要素 V分析プラットフォーム

完全な方法ライブラリ

人間的な方法ライブラリ管理

省エネ・消費削減

異なるアプリケーションに対して双方向観測と垂直観測の2つの構成がある

アルゴンガス消費を低減するための複数の措置

応用分野

金属、水利、電子、地鉱、石油石化、出入国

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