マイクロ波真空管式炉

マイクロ波真空管式炉紹介

製品概要：

電子レンジマイクロ波真空焼結炉焼結炉は、マイクロ波高温加熱技術を用いて伝統的な加熱炉の設計と結合し、管路の両端を特殊に設計することにより、真空、雰囲気、温度制御、圧力制御などの多種の技術条件を実現することができる。

適用範囲：

石炭、電力、冶金、粉体処理及び化学工業などの業界実験室及び大学実験室で真空又は流動雰囲気条件下での各種固体材料の高温合成、焼成、焼成、焼結、熱分解、炭化、灰化、焼成、溶融及び熱処理などに適用する、半導体、ナノ材料、磁性材料、電子セラミックス、構造セラミックス、金属化合物、窒化物、炭素繊維、グラフェンプロセス分野などの材料の焼結、合成に用いることもできる、この炉は高温電子レンジ及びその焼結プロセス技術の「高、低、速、省」の利点のほか、用途が広く、操作が簡便で、プロセスの繰り返し性、安定性が良いという顕著な利点を有する。特に新材料の開発、試験、及び少量生産に適している。

主な特徴：

①昇温速度が速く、温度場が均一で、20 min以内に室温から1000℃まで上昇することができる（黒鉛で）

②一体化設計、設備と真空雰囲気セット設備の集積、安全で信頼性が高い

③ 専用セラミック繊維材料の炉腔と二層保温構造を採用し、炉表温度が常温熱電対測温であることを確保する

④ エニックスproシステム、PLC自動制御、温度と電力はすべてインテリジェントで制御可能、タッチスクリーン操作、リアルタイム温度パワーグラフ表示、手動、自動、恒温の3種類の操作モードを提供し、自由に切り替えることができる

⑤ 無段可変調整、高安定度長寿命、連続波工業級マイクロ波源を採用し、設備が連続的に安定して長時間運行できることを確保する

⑥空気路接続方式のマイクロ波フランジ接続、材料の供給が便利で、カチューシャ接続、本設備は非接触式加熱であり、材料に汚染がない

雰囲気：

複数の雰囲気（例：空気、酸素、窒素、アルゴン、弱還元性雰囲気など）を通すことができ、耐食性排気通路を採用し、加熱中に排出されたガスを迅速に排出することができる。

特殊炉型構造：

1.電子レンジ真空焼結炉は多目的高温炉である。ワーク加熱のために真空、制御可能な雰囲気などの多種の作業環境を提供することができる。特にセラミックス材料の合成と焼結、粉末冶金部品の焼結、無機材料の乾燥、熱処理、粉体焼成、化学分析における灰化処理、各種固体廃棄物の分解処理実験などに適している。

2.用途が広く、操作が簡便で、プロセスの重複性、安定性が良い

3.特に新材料の開発及び少量生産の使用に適している。

技術仕様

●給電要求：220 VAC

●全体の電力：4500 W

●マイクロ波周波数：2450 MHz（S段周波数帯マイクロ波）

●マイクロ波電力：4000 W

●電力調整：4000 W（閉ループPID調整マイクロ波線形出力）

●調整方式：非パルス連続調整可能

●調整比：0-100

●温度測定方式：輸入赤外線

●温度制御精度：±1℃

●配備温度：1700℃

●真空システム：独立真空セットシステム一式を搭載

●真空度：限界真空-0.099 MPa（青島地区標高測定）

●雰囲気システム：独立ガス保護装置を設置し、窒素、酸素、不活性ガスなどによる雰囲気処理を行うことができる

●キャビティ材質：航空耐高温材料（エニックス特定）

●保温材：炉キャビティは316 L工業級ステンレス鋼を用いて一体成形し、3 Dマイクロ波シミュレーションによりマイクロ波の均一性を高め、6層までの保温構造

●扉体：扉体は防爆緩衝扉を採用する

●表示方式：タッチパネル及び埋め込み型人間機械交換システム

●制御システム：エニックス-proシステム

●機能配置：クラウド自動保存機能、リアルタイム電力表示、リアルタイム電流表示、リアルタイム温度表示制御、リアルタイム曲線、USBクラウドデータ導出、485変換器搭載、CP接続可能、60セットのプロセス保存、各配置5段プロセス、新旧プロセス置換モード、多種作業モード、手動、自動、恒温、計器故障計器自動停止機能など

●保護機能：設備は超温警報、過電流警報、素子自己検査、温度異常、センサ異常自動停電保護を装備する。

●大出力1000 W、超大工業級炉キャビティを配合し、キャビティ内のマイクロ波場の均一性を保証する

●設備本体：無極材料を採用し、射出成形が美しく、気前がよい

●カットオフ円の使用どうはかん封止構造、インダクタ式抑制器、マイクロ波の漏洩防止処理に優れた国家基準（≦5 mW/cm 2）

●外形寸法：約780*650*950（幅*奥行き*高さ）、デスクトップ