超高真空多チャンバ物理蒸着システム

超（ちょう）高真空多チャンバ物理蒸着システム（PVD）

このシステムは専門の堆積設備メーカーによって製造され、多種の堆積方式（各種機能インタフェースを予約する）を配置し、高度に柔軟で、多種の堆積モードの科学研究に非常に適している。

現在、このシステムの超高真空条件堆積モード（機械ポンプ+分子ポンプのみで、限界真空は5 X 10 E-10 Torrに達することができる）。複数の組合せ堆積モード、同一キャビティは複数の機能堆積方式を実現し、堆積源モードは：
マグネトロンスパッタリング源
ビーム蒸発源
ねつじょうはつげん
このシステムは高度に柔軟で、ソフトウェアの操作が便利で、専門は研究機構のために超純度薄膜を堆積して、本当の超高真空堆積システムです。
技術パラメータ：
極限真空：<5 x 10 E-10 torr（24時間ベーキング冷却後）、
めっき均一性：3%未満
サンプル転送：上置き基板の簡単な配置
キャビネット：占有スペースの小さい構造、
サンプルテーブルの動作：回転、加熱、負荷バイアス、
サンプル操作：プリドロー真空チャンバ、
サンプルサイズ：1”、2”、3”、4”、8”、12”など、
膜厚監視：石英結晶マイクロ天秤、偏光解析器、
ベーキング：内部加熱または外部保温加熱、
簡単で便利な全自動ソフトウェア操作：全自動真空抽出、プログラム自動運転。